无尘车间生产对于湿度控制是非常重要的条件之一，无尘车间、洁净室运作过程中一个常用的环境控制条件是相对湿度。半导体无尘车间、洁净室中的典型的相对湿度的目标值大约控制在30至50%的范围内，允许误差在±1%的狭窄的范围内，例如光刻区或者在远紫外线处理(DUV)区甚至更小而在其他地方则可以放松到±5%的范围内。
随着现代化生产的发展及工业技术的升级换代，对于无尘清洁生产及其环境的要求越来越高，比如无尘车间要求车间地坪要耐腐蚀、洁净和耐磨，室内空气含尘量尽量的低，有很多无尘车间净化厂房，还要求地面具备防静电和防1菌抑菌性能。除了工业生产净化厂房对室内净化程度要求外，很多科研、教学、实验、医院也对室内空气净化程度有很高要求。
无尘室有五个特性：
（l）耐久性；无尘室要有符合环境、无尘室内部的清洗溶液及振动、设备、空气过滤系统的耐久材料。（2）成本；（3）适应性；（4）可维护性；（5）清洗；在制药和生物工学工业，无尘室的墙壁需要有容易被清洗和擦拭，直到防止滤过性1病毒或细菌的污染之特性。
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