无尘车间生产对于湿度控制是非常重要的条件之一,无尘车间、洁净室运作过程中一个常用的环境控制条件是相对湿度。半导体无尘车间、洁净室中的典型的相对湿度的目标值大约控制在30至50%的范围内,允许误差在±1%的狭窄的范围内,例如光刻区或者在远紫外线处理(DUV)区甚至更小而在其他地方则可以放松到±5%的范围内。
随着现代化生产的发展及工业技术的升级换代,对于无尘清洁生产及其环境的要求越来越高,比如无尘车间要求车间地坪要耐腐蚀、洁净和耐磨,室内空气含尘量尽量的低,有很多无尘车间净化厂房,还要求地面具备防静电和防1菌抑菌性能。除了工业生产净化厂房对室内净化程度要求外,很多科研、教学、实验、医院也对室内空气净化程度有很高要求。
无尘室有五个特性:
(l)耐久性;无尘室要有符合环境、无尘室内部的清洗溶液及振动、设备、空气过滤系统的耐久材料。(2)成本;(3)适应性;(4)可维护性;(5)清洗;在制药和生物工学工业,无尘室的墙壁需要有容易被清洗和擦拭,直到防止滤过性1病毒或细菌的污染之特性。